三分糊塗 作品
第631章 全村的希望
蘇遠山突然覺得嘴皮有點幹，沉默許久後，他抿著嘴唇，輕聲道。
“我得承認，我這段時間確實對光刻機領域關注得少了一點。”
曲慧此時已經放下書，望著他，正色道:“你不止是少一點，光刻機是不能放棄的。”
“是。”蘇遠山點頭，再次沉默幾秒後望向鄭振川:“鄭叔，就算德遠採購明年的krf光刻機，能夠讓你們擁有競爭力嗎？”
“或者說，你們宏芯真的到了必須得靠德遠採購才能活下去的時候了？”
“不……當然不是。”鄭振川馬上搖頭:“如果德遠能夠採購我們的光刻機，國內一幫人肯定會閉嘴的，更何況……我們還有雙工件臺呢。”
蘇遠山微微點頭。
這個理由他認可。
從規模上，德遠當然比不過intel，德儀，nec這種老牌半導體企業，甚至連島上的聯電都比不過。
但從製程工藝和技術實力來看，德遠的崛起確實帶著濃濃的遠芯印記，短短四年時間不到，就追上了製程領域的第一梯隊，堪稱半導體行業的奇蹟。
而從德遠上個季度公佈的財報來看，德遠也躋身進了十大晶圓廠。甚至因為並沒有涉足目前正受衝擊的dram領域，還一舉超過了nec和德儀，一舉進入了前六。
如果能拿到德遠的“認可”，顯然對宏芯的光刻機是有正面宣傳意義的。
沉默著，蘇遠山突然望向曲慧。
“曲慧姐，你們那邊的定位精度在一年內能提到多少？有計劃表沒有？”
——工件臺的精度與光刻機的製程工藝是兩碼事，一般來說，0.5微米制程，搭配糾偏系統的話，需要的套刻精度是0.1微米以下。
套刻，指的是，在依次曝光完硅晶片的所有field後，更換掩膜進行重複曝光，這兩次曝光的過程中的掩膜，需要精確地套疊在一起，因此被稱為套刻。
而眾所周知，工件臺是光刻機工作時所有工序的平臺，因此套刻精度又受工件臺定位精度的直接影響。
在引入誤差後，雙工件臺的精度起碼還得提升個10倍，達到0.05微米的精度以上，才能真正用在0.25微米的製程工藝上——這才是遠芯需要的光刻機。
而後世的工件臺，定位精度甚至能夠達到2納米以下！加上多重曝光，理論上甚至能實現2納米的製程。
現在曲慧說定位精度在0.5微米，那意思就是首都精科那邊只能算是造出了雙工件臺，要真正運用在光刻機上，還需要進行不斷的調試。
蘇遠山對機械不甚瞭解，他只知道，如果零部件誤差在允許範圍內的話，那麼精度的提升就只能依靠糾偏系統了。
糾偏系統，顧名思義，就是糾正偏移的系統。它的工作原理說簡單也簡單，就是搭配光柵傳感器，把精度控制、調整在可以接受的範圍內。但說複雜也複雜，因為它對運動控制模塊的要求相當高。
曲慧合上書，回答道:“計劃當然是有計劃，我們接下來會一直繼續優化糾偏系統和運動控制模塊，但現在沒辦法告訴你準確的進度。”
蘇遠山慢慢點頭，突然問道:“首都高科對雙工件臺的出口計劃是什麼？”
鄭振川和曲慧一對視，兩人同時沉默。
片刻後，鄭振川輕聲道:“小山，我們被國外掐脖子掐得夠厲害了，我認為我們的雙工件臺不需要出口。”
曲慧同樣點頭:“我也認為。”
……
蘇遠山長長地嘆了一口氣。
直到現在，他才終於弄明白了這二人的真正來意。
曲慧的想法，大概是她更多從要之前被掐脖子掐得狠了，現在終於輪到自己領先，要“爽一把”的角度來考慮。
而鄭振川，則是考慮到雙工件臺所帶來的效率提升，必定會賦予宏芯光刻機強大的競爭力——說白了，就是鄭振川把國產光刻機的未來押在了雙工件臺上。
但顯然……首都精科那邊的想法不一樣。
畢竟這是產品，而不是技術。
是，產品是存在著被山寨的可能，但別忘了，有種東西叫防拆自毀裝置——這還是西方搞出來的。
一旦出口，則意味著首都精科將會擁抱更大的市場，擁有更高的平臺，甚至還極有可能用雙工件臺來換取某些領域封鎖的解除。
“我得承認，我這段時間確實對光刻機領域關注得少了一點。”
曲慧此時已經放下書，望著他，正色道:“你不止是少一點，光刻機是不能放棄的。”
“是。”蘇遠山點頭，再次沉默幾秒後望向鄭振川:“鄭叔，就算德遠採購明年的krf光刻機，能夠讓你們擁有競爭力嗎？”
“或者說，你們宏芯真的到了必須得靠德遠採購才能活下去的時候了？”
“不……當然不是。”鄭振川馬上搖頭:“如果德遠能夠採購我們的光刻機，國內一幫人肯定會閉嘴的，更何況……我們還有雙工件臺呢。”
蘇遠山微微點頭。
這個理由他認可。
從規模上，德遠當然比不過intel，德儀，nec這種老牌半導體企業，甚至連島上的聯電都比不過。
但從製程工藝和技術實力來看，德遠的崛起確實帶著濃濃的遠芯印記，短短四年時間不到，就追上了製程領域的第一梯隊，堪稱半導體行業的奇蹟。
而從德遠上個季度公佈的財報來看，德遠也躋身進了十大晶圓廠。甚至因為並沒有涉足目前正受衝擊的dram領域，還一舉超過了nec和德儀，一舉進入了前六。
如果能拿到德遠的“認可”，顯然對宏芯的光刻機是有正面宣傳意義的。
沉默著，蘇遠山突然望向曲慧。
“曲慧姐，你們那邊的定位精度在一年內能提到多少？有計劃表沒有？”
——工件臺的精度與光刻機的製程工藝是兩碼事，一般來說，0.5微米制程，搭配糾偏系統的話，需要的套刻精度是0.1微米以下。
套刻，指的是，在依次曝光完硅晶片的所有field後，更換掩膜進行重複曝光，這兩次曝光的過程中的掩膜，需要精確地套疊在一起，因此被稱為套刻。
而眾所周知，工件臺是光刻機工作時所有工序的平臺，因此套刻精度又受工件臺定位精度的直接影響。
在引入誤差後，雙工件臺的精度起碼還得提升個10倍，達到0.05微米的精度以上，才能真正用在0.25微米的製程工藝上——這才是遠芯需要的光刻機。
而後世的工件臺，定位精度甚至能夠達到2納米以下！加上多重曝光，理論上甚至能實現2納米的製程。
現在曲慧說定位精度在0.5微米，那意思就是首都精科那邊只能算是造出了雙工件臺，要真正運用在光刻機上，還需要進行不斷的調試。
蘇遠山對機械不甚瞭解，他只知道，如果零部件誤差在允許範圍內的話，那麼精度的提升就只能依靠糾偏系統了。
糾偏系統，顧名思義，就是糾正偏移的系統。它的工作原理說簡單也簡單，就是搭配光柵傳感器，把精度控制、調整在可以接受的範圍內。但說複雜也複雜，因為它對運動控制模塊的要求相當高。
曲慧合上書，回答道:“計劃當然是有計劃，我們接下來會一直繼續優化糾偏系統和運動控制模塊，但現在沒辦法告訴你準確的進度。”
蘇遠山慢慢點頭，突然問道:“首都高科對雙工件臺的出口計劃是什麼？”
鄭振川和曲慧一對視，兩人同時沉默。
片刻後，鄭振川輕聲道:“小山，我們被國外掐脖子掐得夠厲害了，我認為我們的雙工件臺不需要出口。”
曲慧同樣點頭:“我也認為。”
……
蘇遠山長長地嘆了一口氣。
直到現在，他才終於弄明白了這二人的真正來意。
曲慧的想法，大概是她更多從要之前被掐脖子掐得狠了，現在終於輪到自己領先，要“爽一把”的角度來考慮。
而鄭振川，則是考慮到雙工件臺所帶來的效率提升，必定會賦予宏芯光刻機強大的競爭力——說白了，就是鄭振川把國產光刻機的未來押在了雙工件臺上。
但顯然……首都精科那邊的想法不一樣。
畢竟這是產品，而不是技術。
是，產品是存在著被山寨的可能，但別忘了，有種東西叫防拆自毀裝置——這還是西方搞出來的。
一旦出口，則意味著首都精科將會擁抱更大的市場，擁有更高的平臺，甚至還極有可能用雙工件臺來換取某些領域封鎖的解除。