三分糊塗 作品

第1013 星辰大海,腦機互聯

    下午的會議,鄭振川就沒有再參加了。

    但遠芯對半導體行業的討論仍然在繼續。

    “過去十幾年,我們一直在和intel比工藝,截止去年,我們都已經走到了成熟的45nm節點上。”張汝金戴上了老花鏡,瞥了一眼手中的文件,臉上是不甚唏噓的感慨:“不得不說,intel還是很厲害的,我們每次有領先,他們總是能夠及時的追上來甚至還能反超。”

    “摩爾定律就是這麼實現的。”蘇遠山笑著補充了一句。

    “是啊,但今年我們可以提前一大步了。”張汝金笑呵呵地望向眾人,但主要的視線還是停在蘇遠山的臉上。

    畢竟,這與會的多人裡,還是蘇遠山對半導體工藝理解得最深刻。

    “最遲年中,我們就可以推出基於22nm的fi工藝,把晶圓的晶體管密度再上一個臺階。而且我們目前的de技術已經成熟,目前正在向sadp技術轉移,從技術的角度,是可以支撐我們的工藝在duv的條件下把製程繼續往下探,或者說,等效製程往下探。”

    //de(doubleexposure,雙重曝光),sadp(self-aligneddoublepatterning自對準雙重成像)

    “如果intel跟不上,那這將會是一次巨大的領先!”張汝金紅光滿臉,終於忍不住有些激動起來:“製程進入到22nm之後,fi將會是唯一的選擇,最起碼目前是。”

    在場的眾人並不是每個人都對半導體工藝有理解,見到身邊的周小慧露出遲疑的神色,蘇遠山就輕輕咳了一聲,笑著替她解釋道:“目前的電腦芯片一直採用mosfet結構,嗯……準確的說,是npn結構……”

    見周小慧還是有些不懂,蘇遠山便放棄瞭解釋,直接道:“反正就是,我們以前所說的製程就是指的mosfet結構中的溝道長度。溝道越短,電阻越小,性能越高,同時晶體管密度也就越大,所以才要不斷提升製程。”

    “哦?然後呢?”

    “然後就是如果還是沿用以前mosfet結構的話,當溝道長度越來越短,譬如22nm之後,源極和漏極之間也會越來越近,電場也越來越近。”蘇遠山說著伸出雙手靠近,然後把自己的筆記本放在手上:“我的兩隻手就是源極和漏極,電流從源極流入,漏極流出,併產生電場,當它們距離過近,就會干擾到上面的柵極,從而漏電——我們把這個效應稱為短溝道效應。”